在Intel的線程路線圖中，5nm工藝制程以及3nm工藝制程處于藍(lán)色的前沿研究階段，而10nm和7nm則是研究基本完成的狀態(tài)，至于更前面的14nm工藝制程則是處于已投產(chǎn)的狀態(tài)。
此外，Intel還在大會(huì)現(xiàn)場(chǎng)簡(jiǎn)單介紹了為應(yīng)對(duì)未來的嚴(yán)苛挑戰(zhàn)而準(zhǔn)備的八項(xiàng)前沿研究技術(shù)，它們分別是納米線晶體管、III-V族晶體管，3D-堆疊、密集內(nèi)存、密集互聯(lián)、EUV圖案成形、神經(jīng)元計(jì)算以及自旋電子學(xué)等。就是不知道，這些技術(shù)何時(shí)才能派上用場(chǎng)。
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